可变孔径坩埚和OLED成膜系统
授权
摘要
本实用新型的实施例提供了一种可变孔径坩埚和OLED成膜系统，涉及显示技术领域。该可变孔径坩埚包括坩埚本体、分散板组和移动组件，坩埚本体具有容置腔室和与容置腔室连通的蒸镀孔，分散板组可活动地设置于坩埚本体，并用于遮盖蒸镀孔，移动组件与分散板组传动连接，用于带动分散板组运动，以调节分散板组遮挡蒸镀孔的面积。上述的可变孔径坩埚和OLED成膜系统具有结构简单和使用方便的特点，能够适用于不同成膜材料成膜厚度和成膜速度，平衡蒸镀速率稳定性和均匀性。
基本信息
专利标题 ：
可变孔径坩埚和OLED成膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921762676.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-18
授权号 ：
CN210683924U
授权日 ：
2020-06-05
发明人 ：
张冲森
申请人 ：
东莞市能特自动化科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市万江区新和社区下塘坊后滘3号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
杨鹏
优先权 ：
CN201921762676.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-06-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
