一种电池片成膜气氛控制方法、成膜系统和成膜方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种电池片成膜气氛控制方法、成膜系统和成膜方法，属于电池成膜技术领域。它包括预先设定电池片成膜气氛中所需的标准水汽分压P标＝P1±P2，其中P1‑P2为标准水汽分压的最低值，P1+P2为标准水气分压的最高值；将待成膜电池片置于成膜腔体中，成膜腔体中设有温度可调的冷阱盘管，冷阱盘管的温度调节范围为‑180℃～‑100℃；电池片成膜气氛中的实际水汽分压为P实，若P实＞P1+P2，则通过降低冷阱盘管的温度来降低P实并使其在P1±P2范围内；若P实＜P1‑P2，则通过增加冷阱盘管的温度来增加P实并使其在P1±P2范围内。本发明能有效控制电池片成膜气氛中的水汽含量，进而提升成膜电池片的转换效率Eta等性能。
基本信息
专利标题 ：
一种电池片成膜气氛控制方法、成膜系统和成膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318293A
申请号 ：
CN202111644533.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张永胜解传佳武瑞军刘浏莫超超陆晓星常新新
申请人 ：
苏州迈为科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区芦荡路228号
代理机构 ：
江苏瑞途律师事务所
代理人 ：
韦超峰
优先权 ：
CN202111644533.X
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/52 C23C14/54 C23C14/56 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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