一种真空镀膜的薄膜掺杂结构
授权
摘要
本实用新型涉及薄膜掺杂技术领域，且公开了一种真空镀膜的薄膜掺杂结构，包括阳极、阴极和真空室，所述真空室的底板上设有加热源，所述加热源的内部设置有掺杂材料，所述加热源的上部设置有弧形喷嘴，所述掺杂材料受加热源的加热熔化，从弧形喷嘴喷出，实现薄膜掺杂。本实用新型的真空镀膜的薄膜掺杂结构，通过加热源将掺杂材料加热从弧形喷嘴喷出，通过更换不同掺杂材料及调节加热源功率，从而使真空镀膜薄膜掺杂更为高效、稳定、便捷、低成本。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜的薄膜掺杂结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921871805.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-02
授权号 ：
CN211339669U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
邹杨孙蕾邹松东
申请人 ：
洛阳奥尔材料科技有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市涧西区浅井头一街坊7幢2-402室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921871805.8
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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