一种制备梯度薄膜的真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种制备梯度薄膜的真空镀膜装置，包括真空腔体，以真空腔体底面为XY平面，XY平面方向，过基片中心的直线与基片边缘交点为线段一，过坩埚顶面中心直线与坩埚顶面边缘的交点为线段二，使线段一与线段二相交于旋转基片托架与热蒸发装置之间，所述掩膜板远离真空腔体内壁的侧面过线段一与线段二的交点。本实用新型通过使掩膜板在特定地交点位置，通过结合基片旋转实现了在基片表面梯度薄膜的制备，且所述制备梯度薄膜的真空镀膜装置结构简单，便于本领域技术人员进行操控。
基本信息
专利标题 ：
一种制备梯度薄膜的真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021417217.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-17
授权号 ：
CN213013064U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
郭鸿杰冯秋洁
申请人 ：
宁波星河材料科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市宁波高新区宁波新材料创新中心东区1幢1号10-4-1
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
潘登
优先权 ：
CN202021417217.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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