一种半导体湿法设备及其隔离推门装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体湿法设备及其隔离推门装置，所述隔离推门装置包括安装底座、固定在安装底座上的侧向安装板、推动机构、挡门、以及挡门支撑臂，推动机构包括滑轨和气缸，滑轨固定在侧向安装板上，气缸通过锁紧组件活动设置在滑轨上，挡门支撑臂的一端通过夹持组件与气缸上的锁紧组件相连、另一端固定在挡门上。通过在半导体湿法设备内部每个清洗工艺区的清洗模组上分别安装一个隔离推门装置，能够将不同清洗工艺区的气氛隔离开来，从而避免不同清洗工艺区的气氛交叉感染，有效地提高了晶圆的清洗质量和洁净度。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体湿法设备及其隔离推门装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921945390.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-12
授权号 ：
CN211208396U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
徐铭庄海云陈佳炜王雪松
申请人 ：
至微半导体（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室
代理机构 ：
上海智力专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
杜冰云
优先权 ：
CN201921945390.4
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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