一种真空镀膜设备内壁清理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜设备内壁清理装置，包括内池体和清理架，所述清理架两端下侧开设有凹槽，所述凹槽内部安装有行走轮，且凹槽卡设在内池体的池壁上部，所述清理架上安装有清理轴，所述清理轴下部外侧安装有侧壁清理刷，所述清理轴下侧安装有底部清理盘，所述底部清理盘下侧安装有底壁清理刷，所述清理轴等间距安装有多个，本实用新型真空镀膜设备内壁清理装置，将设备放置在内池体的池壁上部自动往复行走，并通过侧壁清理刷和底壁清理刷对内池体的侧壁和底部进行清刷处理，而且能够实现全方位的清理效果。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜设备内壁清理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921967200.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-14
授权号 ：
CN210945758U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
姜涛
申请人 ：
苏州竣腾纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区工业园区胜浦银胜路133号
代理机构 ：
苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
金香云
优先权 ：
CN201921967200.9
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 B08B9/087
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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