一种用于半导体生产过程中的抛光装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于半导体生产过程中的抛光装置,包括箱体,箱体的内腔安装有气缸一,箱体的上方设置有支撑架,支撑架底部的两侧均固定焊接有横板,横板的顶部贯穿设置有导向杆,导向杆的底端与箱体焊接,两个横板相互靠近的一侧均焊接有抛光筒,抛光筒的内腔设置有半导体本体,两个抛光筒之间焊接有连接板,气缸一的输出轴贯穿至箱体的顶部并与连接板焊接。本实用新型可以起到对半导体本体全方位抛光的作用,抛光完成后通过出料机构进行出料和收集,一方面保证了该抛光设备对半导体抛光的质量,而且提高了半导体加工的效率,大大提高了半导体生产加工的效率,提高半导体生产加工企业的经济效益。

基本信息
专利标题 :
一种用于半导体生产过程中的抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922006091.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-19
授权号 :
CN211867437U
授权日 :
2020-11-06
发明人 :
张军山
申请人 :
丹东安顺微电子有限公司
申请人地址 :
辽宁省丹东市沿江开发区房坝2号楼
代理机构 :
北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
田江飞
优先权 :
CN201922006091.0
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B27/00  B24B41/06  B24B41/00  B24B47/22  B24B41/02  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2020-11-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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