一种减少重锤与旋转摆弧共振的单晶副室防摆弧机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种减少重锤与旋转摆弧共振的单晶副室防摆弧机构,包括炉体、重锤本体和光感液面监测仪,所述炉体的内部开设有内腔,且内腔的侧壁固定安装有固定密封滑动轴承,所述重锤本体位于内腔的中部,且重锤本体的上端连接有钢线,所述钢线的侧面设置有连接滑轴,所述光感液面监测仪位于内腔的上端,且光感液面监测仪的上端连接有活动轴,所述连接活动槽的内侧活动连接有连接活动座,且连接活动座的侧端连接有连接轴,并且连接轴的外侧连接有调节螺杆。该减少重锤与旋转摆弧共振的单晶副室防摆弧机构,通过连接滑轴等结构将钢丝应力引出至外连接轴承上来减少钢线振弧,方便稳定加工。
基本信息
专利标题 :
一种减少重锤与旋转摆弧共振的单晶副室防摆弧机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922061226.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-26
授权号 :
CN211522364U
授权日 :
2020-09-18
发明人 :
杨昊
申请人 :
弘元新材料(包头)有限公司
申请人地址 :
内蒙古自治区包头市青山区装备制造产业园区管委会A座516室
代理机构 :
北京睿博行远知识产权代理有限公司
代理人 :
张燕平
优先权 :
CN201922061226.3
主分类号 :
C30B15/00
IPC分类号 :
C30B15/00 C30B29/06
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
法律状态
2020-09-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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