一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，包括真空腔室和设置在该真空腔室中的坩埚、坩埚遮挡盘、工件架、离子源、离子遮挡盘、主晶振、光学监控、辅晶振，所述坩埚内放置有蒸发材料，所述坩埚和离子源均置于真空腔室底部，所述坩埚遮挡盘和离子遮挡盘分别可转动式固定在坩埚和离子源的上方，所述用于监控镀膜参数的主晶振和光学监控均设置在真空腔室的顶部，所述用于监控材料蒸发参数的辅晶振设置在真空腔室的侧壁上，所述工件架位于主晶振下方。本实用新型在蒸发源侧壁上方增加辅晶振，在镀膜过程中对光斑位置进行监控，通过主晶振和辅晶振之间参数的比例，判断光斑位置是否变化，以及时对其进行调整，降低产品的不良率。
基本信息
专利标题 ：
一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922070873.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-26
授权号 ：
CN211227304U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
刘辉刘敏刘军刘功豪叶永洋邹维吴临红
申请人 ：
江西水晶光电有限公司
申请人地址 ：
江西省鹰潭市经济技术开发区和谐路7号
代理机构 ：
鹰潭市智埠专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
周少华
优先权 ：
CN201922070873.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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