一种碳化硅涂层用高效沉积炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种碳化硅涂层用高效沉积炉，包括炉壳以及炉壳内壁开设的内隔热层，所述炉壳内腔设置有托盘，所述炉壳底部开设有发热体，所述炉壳顶端开设有上隔热腔，且上隔热腔内部固定连接有驱动电机，所述驱动电机输出轴处固定连接有中心转杆，且中心转杆侧表壁与托盘固定连接，所述炉壳内腔开设有隔板，且隔板上开设有第二开口，所述第二开口与托盘间隙配合，所述炉壳外侧侧表壁上开设有开口法兰。本实用新型中，采用了三腔隔离结构，实现了三个隔板隔出的三个腔体互相隔离互不干扰，采用了转盘式换料结构，实现了三组托盘上的物料便于快速的更换，同时实现了减少其余两个腔体完全打开时对于温度的损失。
基本信息
专利标题 ：
一种碳化硅涂层用高效沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922141234.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-04
授权号 ：
CN211546661U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
黄晓峰黄子丹
申请人 ：
昊石新材料科技南通有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市南通高新区金源路111号
代理机构 ：
郑州芝麻知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭尊言
优先权 ：
CN201922141234.9
主分类号 ：
C23C16/32
IPC分类号 ：
C23C16/32 C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C16/32
碳化物
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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