一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉
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摘要
本实用新型提供一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉。碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉，包括：炉体；两个支撑杆，两个所述支撑杆均设于所述炉体内；两个安装板，两个所述安装板固定安装在两个支撑杆的顶端和底端；两个螺纹杆，两个所述螺纹杆均转动安装在两个所述安装板上。本实用新型提供的碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉具有能够对管状基体进行有效的固定同时也能够避免支承装置不与管状基体需要沉积碳化硅涂层的外表面不与接触而完全裸露出来、使碳化硅涂层沉积均匀而不遗漏、提高产品的性能、可使输送的气体原材料能够均匀地分布、提高沉积速率、提高碳化硅涂层的致密性和均匀性、提高产品质量的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021030767.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-08
授权号 ：
CN212770951U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
贺鹏博周帆
申请人 ：
湖南铠欣新材料科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省益阳市高新区东部产业园标准化厂房E区E1栋北侧一半
代理机构 ：
长沙轩荣专利代理有限公司
代理人 ：
张勇
优先权 ：
CN202021030767.6
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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