一种提高涂层均匀性的化学气相沉积结构
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摘要
本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域，尤其涉及一种提高涂层均匀性的化学气相沉积结构，解决现有技术中存在的缺点，包括机壳和真空泵，所述机壳为空腔结构，所述机壳的内部滑动设置有沉积台，沉积台的顶部固定安装有加热器，所述加热器的顶部固定连接有基片，且机壳的内壁一侧分别焊接有隔绝罩和导向块，所述隔绝罩的内部滑动设置有升降板，通过伺服电机、丝杠、沉积台、隔绝罩、升降板以及螺杆等结构的设置，在基片进行沉积处理前，利用进气管可提前将气体泵入设备内部，使气体均匀扩散在设备内，随后通过伺服电机来使沉积台在设备内部来回滑动，以此确保气体能够均匀地包裹在基片表面，从而提升基片的沉积效果。
基本信息
专利标题 ：
一种提高涂层均匀性的化学气相沉积结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020901409.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-26
授权号 ：
CN212476876U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
朱双林李春敏马国忠胡人文王恩强黄道平沈伟
申请人 ：
苏州索科特新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市张浦镇欣合路6号1幢
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020901409.1
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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