一种增加光阻附着性的设备
授权
摘要
本实用新型属于半导体设备领域，尤其涉及一种增加光阻附着性的设备，用于处理晶片，至少包括：托盘，位于腔体内部，用于放置晶片；管路，连接腔体内部和外部；液体存储机构，位于腔体外部，与管路的一端连接，用于储存液体；喷头，位于托盘的上方，与管路的另一端连接，用于将液体喷洒至晶片表面；其特征在于：还包括连杆和与连杆下端连接的驱动机构，所述托盘具有复数个，所述托盘贯穿连杆平行设置，所述驱动机构驱动连杆旋转，并带动托盘旋转。本实用新型的多个垂直平行设置并可旋转的托盘，可以使HMDS液体完全附着于每个晶片的表面，同时浓度感应器，可以实时监控腔体内液体的浓度，同时在作业完成时，保证工作人员的安全。
基本信息
专利标题 ：
一种增加光阻附着性的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922151749.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-05
授权号 ：
CN210954606U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
张斌庄士贤王猛蔡家豪张家豪
申请人 ：
安徽三安光电有限公司
申请人地址 ：
安徽省芜湖市经济技术开发区东梁路8号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922151749.7
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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