用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置
授权
摘要
本实用新型公开了用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，主要涉及硬质薄膜沉积技术领域。包括待镀膜头罩模拟件、调整底盘；所述调整底盘包括头罩支架和头罩圆环，所述待镀膜头罩模拟件的周底面与头罩支架的台阶顶面之间设有圆环状O形圈，所述待镀膜头罩模拟件的周侧面、头罩支架的台阶侧面、圆环状O形圈的外侧面与头罩圆环的内侧面相适配接触，所述头罩圆环的外侧弧面与待镀膜头罩模拟件的圆弧面之间形成连续的过渡。本实用新型的有益效果在于：能够实现待镀膜头罩模拟件与调整底盘之间的密封，避免反应物扩散到待镀膜头罩模拟件的内表面成膜，试验后发现，“衍射边”消失。
基本信息
专利标题 ：
用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922286862.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-18
授权号 ：
CN211005579U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
杨永亮李娜张泓筠陈亮莫秋燕付秀华尤恩沃德尔
申请人 ：
杨永亮
申请人地址 ：
贵州省黔东南苗族侗族自治州凯里经济开发区开元大道3号
代理机构 ：
济南知来知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹丽
优先权 ：
CN201922286862.6
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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