一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置,包括靶材夹持机构、旋转平台和底座,旋转平台固定在底座上,底座下方安装有可升降支撑腿,靶材夹持机构包括U形夹持架,U形夹持架包括底板、左侧板和右侧板,底板下端面开有上凹槽,旋转平台上端面开有与上凹槽对称的下凹槽,且上凹槽和下凹槽之间安装旋转轴,底座内安装有与旋转轴传动连接的电机,左侧板内侧安装第一固定块,右侧板内侧安装第二固定块,本实用新型结构设计新颖,结构稳定性好,能够实现对导电氧化锆旋转靶材表面的快速喷涂,同时能够进行均匀冷却,提高了靶材喷涂质量。

基本信息
专利标题 :
一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922438575.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-30
授权号 :
CN211170867U
授权日 :
2020-08-04
发明人 :
王雷常代展
申请人 :
江苏拓创新材料科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市通州区十总镇骑岸居4组
代理机构 :
北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
许玉顺
优先权 :
CN201922438575.2
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/32  C23C14/08  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2021-12-10 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20191230
授权公告日 : 20200804
终止日期 : 20201230
2020-08-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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