一种镍铬8020靶材制造冷却装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种镍铬8020靶材制造冷却装置，包括安装支架和冷却组件，安装支架呈U形结构，安装之间包括底部水平段、竖直段，竖直段垂直安装在水平段两侧，冷却组件包括金属散热网、半导体制冷片和散热板，金属散热网安装在网框内，网框固定在竖直段上端部，且网框设置在靶材两侧，半导体制冷片安装在金属散热网内侧，散热板设置在靶材下方，散热板下端部通过支撑柱固定在底部水平段上，本实用新型结构设计新颖，能够实现对镍铬8020靶材的快速冷却，而且冷却均匀性好，提高了靶材加工质量。
基本信息
专利标题 ：
一种镍铬8020靶材制造冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922446235.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN211170863U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
王雷常代展
申请人 ：
江苏拓创新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市通州区十总镇骑岸居4组
代理机构 ：
北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
许玉顺
优先权 ：
CN201922446235.4
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/35 C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-12-10 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20191230
授权公告日 : 20200804
终止日期 : 20201230
申请日 : 20191230
授权公告日 : 20200804
终止日期 : 20201230
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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