一种环形靶材循环冷却装置
授权
摘要
本实用新型涉及PVD真空镀膜技术领域，公开了一种环形靶材循环冷却装置，包括冷却套，冷却套一端设置有靶材座，冷却套上设置有进液口，靶材座设置为凸台结构，冷却套内沿其轴向设置有与进液口连通的冷却管，靶材座内设置有与冷却管密封连通的冷却腔，冷却腔呈环形设置并贴近靶材座凸出部的外圆周面，冷却套内沿其轴向还设置有回流芯轴，回流芯轴呈空心设置，回流芯轴贴近靶材座的一端设置有回流管，回流管与冷却腔连通。本实用新型可实现对环形靶材的快速且均匀冷却的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种环形靶材循环冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920553924.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-22
授权号 ：
CN209816255U
授权日 ：
2019-12-20
发明人 ：
周磊窦沛静
申请人 ：
四川艾庞机械科技有限公司
申请人地址 ：
四川省遂宁市船山区西部物流港鹭栖湖B区商业5号楼
代理机构 ：
成都弘毅天承知识产权代理有限公司
代理人 ：
白小明
优先权 ：
CN201920553924.2
主分类号 ：
C23C14/00
IPC分类号 ：
C23C14/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
法律状态
2019-12-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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