电容器及其制作方法
授权
摘要
本申请提供一种电容器及其制作方法，能够制备小体积、高容值密度的电容器。该电容器包括：至少一个多翼结构；叠层结构，该叠层结构包覆该至少一个多翼结构，该叠层结构包括至少一层电介质层和多层导电层，该至少一层电介质层和该多层导电层形成导电层与电介质层彼此相邻的结构；至少一个第一外接电极，该第一外接电极电连接至该多层导电层中的一部分导电层；至少一个第二外接电极，该第二外接电极电连接至该多层导电层中的另一部分导电层，该一部分导电层中的每个导电层在该叠层结构中相邻的导电层包括有该另一部分导电层中的至少一个导电层。
基本信息
专利标题 ：
电容器及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112119476A
申请号 ：
CN201980000563.1
公开（公告）日 ：
2020-12-22
申请日 ：
2019-04-19
授权号 ：
CN112119476B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
陆斌沈健
申请人 ：
深圳市汇顶科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市福田保税区腾飞工业大厦B座13层
代理机构 ：
北京龙双利达知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙涛
优先权 ：
CN201980000563.1
主分类号 ：
H01G4/33
IPC分类号 ：
H01G4/33
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器；电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G4/00
固定电容器；及其制造方法
H01G4/33
薄膜或厚膜电容器
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-01-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01G 4/33
申请日 : 20190419
申请日 : 20190419
2020-12-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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