一种磁性靶材厚度均匀性控制方法
授权
摘要
本发明提供一种磁性靶材厚度均匀性控制方法，所述方法通过在焊接之前将磁性靶材主体磨削至需要厚度，避免了焊接整形后车削导致的靶材厚度不均以及平面度低等问题，在磨削过程中可使磁性靶材主体厚度磨削到位，无需进行过多重复校正，磁性靶材主体的厚度均匀性、平面度得到保证。
基本信息
专利标题 ：
一种磁性靶材厚度均匀性控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111375998A
申请号 ：
CN202010258893.5
公开（公告）日 ：
2020-07-07
申请日 ：
2020-04-03
授权号 ：
CN111375998B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽吴铭乐
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202010258893.5
主分类号 ：
B23P15/00
IPC分类号 ：
B23P15/00 C23C14/35
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B23
机床；其他类目中不包括的金属加工
B23P
未包含在其他位置的金属加工；组合加工；万能机床
B23P15/00
制造特定金属物品，采用不包含在另一个单独的小类中或该小类的一个组中的加工
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2020-07-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B23P 15/00
申请日 : 20200403
申请日 : 20200403
2020-07-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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