一种靶材的磁性弯管机构
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是指一种靶材的磁性弯管机构，其包括基座、真空弯管件、电磁线圈、靶材液冷固定组件和引弧组件，基座安装于真空弯管件的一端，电磁线圈绕设于真空弯管件的外壁，靶材液冷固定组件用于安装靶材并对靶材降温，引弧组件用于驱使该靶材产生弧斑。带电的溅射原子在电磁场力的作用下其移动轨迹与真空弯管件的中心轴线重合设置或平行设置，真空弯管件的中心轴线呈弯曲弧状，使得带电的溅射原子沿特定路径溅射到预设位置的工件的表面，沉积形成镀层，对靶材液冷固定组件内部导入流动的冷却液，能够对靶材液冷固定组件实现快速降温，保护靶材液冷固定组件和靶材，延长靶材液冷固定组件的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材的磁性弯管机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021423105.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-17
授权号 ：
CN212357373U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
王俊锋袁明王锋
申请人 ：
广东鼎泰机器人科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇赤岭村工业区一横南路12号
代理机构 ：
东莞市华南专利商标事务所有限公司
代理人 ：
袁敏怡
优先权 ：
CN202021423105.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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