一种自旋转光纤镀膜掩膜装置及应用该装置的镀膜方法
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摘要
本发明公开了一种自旋转光纤镀膜掩膜装置，包括固定支撑结构、设于固定支撑结构上并用于光纤旋转的驱动结构以及对光纤在镀膜时进行掩膜保护的掩膜结构。本发明的自旋转光纤镀膜掩膜装置在镀膜过程中具有均匀的旋转速度，可以在光纤圆柱侧面上均匀的溅射膜层，整个自旋转光纤镀膜掩膜装置具有单独封闭结构，即使出现故障也不会影响镀膜腔室的环境、镀膜质量，更不会破坏镀膜装置。该装置体积小，结构坚固非常适用于磁控溅射仪此类镀膜室空间狭小的镀膜仪。此装置设计有掩膜结构，可以实现多膜结构的工艺。另外，此装置还适用于其他柱状体的侧面镀膜且镀膜仪器除磁控溅射仪外，亦可用真空蒸镀或离子镀膜仪替代。
基本信息
专利标题 ：
一种自旋转光纤镀膜掩膜装置及应用该装置的镀膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111349886A
申请号 ：
CN202010324143.3
公开（公告）日 ：
2020-06-30
申请日 ：
2020-04-22
授权号 ：
CN111349886B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
崔俊龙江秀娟
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市越秀区东风东路729号
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈伟斌
优先权 ：
CN202010324143.3
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/35 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2020-07-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20200422
申请日 : 20200422
2020-06-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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