曝光控制方法、装置、终端设备及存储介质

授权

摘要

本发明公开一种曝光控制方法，所述方法包括以下步骤：获取摄像头采集的图片中处于预设亮度范围的像素点数量，并根据图片中处于预设亮度范围的像素点数量，确定目标权重参数，其中，目标权重参数包括预先划分的至少两个亮度区间以及各亮度区间对应的权重值；基于图片的亮度信息和目标权重参数，计算图片的加权亮度值；根据加权亮度值以及预设参考亮度值，调整摄像头的曝光时间和/或增益，这样，通过权重参数的设置使得曝光控制适用于各种拍摄场景，增加了曝光控制的精确性，避免现有目标拍摄对象对应的区域曝光不足或曝光过度的情况。本发明还公开了一种曝光控制装置、终端设备及存储介质，保证了曝光控制的精确性。

基本信息

专利标题：

曝光控制方法、装置、终端设备及存储介质

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112073645A

申请号：

CN202010926799.2

公开（公告）日：

2020-12-11

申请日：

2020-09-04

授权号：

CN112073645B

授权日：

2022-04-08

发明人：

付谨学吴晓霞陈洪波周璇

申请人：

深圳创维-RGB电子有限公司

申请人地址：

广东省深圳市南山区深南大道创维大厦A座13-16楼

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所

代理人：

胡海国

优先权：

CN202010926799.2

主分类号：

H04N5/235

IPC分类号：

H04N5/235