一种抛光垫及化学机械抛光设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种抛光垫及化学机械抛光设备，涉及化学机械抛光技术领域，在延长抛光垫使用时间的情况下，降低更换抛光垫的频次，提高抛光效率。该抛光垫包括抛光层。抛光层包括至少两个高度不同的抛光部。本发明还提供一种应用于上述抛光垫的化学机械抛光设备。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光垫及化学机械抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114425743A
申请号 ：
CN202011173862.6
公开（公告）日 ：
2022-05-03
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
具滋贤张月杨涛卢一泓刘青
申请人 ：
中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
北京知迪知识产权代理有限公司
代理人 ：
何丽娜
优先权 ：
CN202011173862.6
主分类号 ：
B24B37/22
IPC分类号 ：
B24B37/22 B24B37/26 B24B37/10 B24B57/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/20
用于加工平面的研磨垫
B24B37/22
以多层结构为特征
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/22
申请日 : 20201028
申请日 : 20201028
2022-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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