工业缺陷识别方法、系统、计算设备及存储介质
公开
摘要
本申请实施例公开了一种工业缺陷识别方法、系统、计算设备及存储介质，属于AI领域。在本申请实施例中，首先从待识别图像中提取目标区域，然后再从目标区域中获得包含有工业缺陷的缺陷粗选区域。通过两次区域提取，提高了工业缺陷相对背景的尺寸占比，能够提高小尺寸的工业缺陷的检出概率。在检测出包含有工业缺陷的缺陷粗选区域之后，对缺陷粗选区域中的工业缺陷进行进一步定位和尺寸估计，能够有效提高缺陷定位和尺寸估计的精度。另外，本申请实施例中不仅对缺陷类型进行了识别，还能够对工业缺陷进行定位和尺寸估计，丰富了工业缺陷的识别维度。
基本信息
专利标题 ：
工业缺陷识别方法、系统、计算设备及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114565548A
申请号 ：
CN202011268302.9
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2020-11-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王秀东金鑫涂丹丹
申请人 ：
华为云计算技术有限公司
申请人地址 ：
贵州省贵阳市贵安新区黔中大道交兴功路华为云数据中心
代理机构 ：
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
杨广宇
优先权 ：
CN202011268302.9
主分类号 ：
G06T7/00
IPC分类号 ：
G06T7/00 G06T7/11 G06T7/60 G06T7/70
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/00
图像分析
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
