一种抛光垫
授权
摘要
本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数以及研磨层，缓冲层物性参数进行综合设计，使得本发明的抛光垫具有优异的综合性能。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112809550A
申请号 ：
CN202011617011.6
公开（公告）日 ：
2021-05-18
申请日 ：
2020-12-31
授权号 ：
CN112809550B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
刘敏黄学良邱瑞英王腾杨佳佳张季平
申请人 ：
湖北鼎汇微电子材料有限公司;长江存储科技有限责任公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011617011.6
主分类号 ：
B24B37/26
IPC分类号 ：
B24B37/26 B24B37/22 B24B37/24
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/20
用于加工平面的研磨垫
B24B37/26
以研磨垫表面的形状为特征，如带有槽的
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2021-06-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/26
申请日 : 20201231
申请日 : 20201231
2021-05-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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