一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备，包括基座、镀膜台体、真空镀膜室、主壳体和控制面板，所述基座顶端的中心位置处固定有主壳体，且主壳体内部的一侧设有预处理室，并且预处理室内部的底端固定有基台，基台的内部设有回收机构，所述基台顶端的中心位置处安装有承载网台，且承载网台上方的预处理室顶部安装有蓄液槽，并且预处理室一侧的主壳体内部设有真空镀膜室，所述真空镀膜室底部的中心位置处通过支架安装有镀膜台体，且镀膜台体内部的中心位置处设有水冷板。本实用新型不仅确保了镀膜设备使用时的镀膜效果，提高了镀膜设备使用时的节能性，而且提高了镀膜设备使用时的便捷性。
基本信息
专利标题 ：
一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020251760.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-04
授权号 ：
CN211848110U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
夏小炎
申请人 ：
苏州尼胜塑胶电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区浦田路75号朱家工业园A1厂房2楼
代理机构 ：
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘巍
优先权 ：
CN202020251760.0
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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