一种塑胶件的真空镀膜镭雕设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种塑胶件的真空镀膜镭雕设备，包括基座、控制面板、加工室、承载台和塑胶件本体，所述基座顶端的中心位置处固定有加工室，且加工室底部的中心位置处固定有旋转台体，并且旋转台体上方的加工室内部设有承载台，所述承载台顶端的中心位置处放置有塑胶件本体，且塑胶件本体两侧的承载台顶端皆设有夹持结构，所述加工室顶部的中心位置处固定有净化室，且净化室一侧的加工室顶部安装有电镀机，并且净化室远离电镀机一侧的加工室顶部安装有镭雕机。本实用新型不仅提高了镀膜镭雕设备使用时的便捷性，降低了镀膜镭雕设备使用时对环境造成的污染，而且提高了镀膜镭雕设备使用时的精准性。
基本信息
专利标题 ：
一种塑胶件的真空镀膜镭雕设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020254839.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-05
授权号 ：
CN211848129U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
夏小炎
申请人 ：
苏州尼胜塑胶电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区浦田路75号朱家工业园A1厂房2楼
代理机构 ：
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘巍
优先权 ：
CN202020254839.9
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50 C23C16/54 C23C16/458 B23K26/362 B23K26/402 B23K26/70 B23K37/04 B23K26/08 B23K26/142
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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