功率放大器芯片生产用接触式光刻机
授权
摘要
本实用新型公开了一种功率放大器芯片生产用接触式光刻机，包括底板，底板的上表面固定有支撑柱，支撑柱的一侧表面上部固定安装有光刻主体，底板的上方沿水平方向活动安装有移动下板，移动下板的上方沿水平方向活动安装有移动上板，移动上板的上表面通过焊接固定有两个支撑块，两个支撑块的顶端通过焊接水平固定有安装板，安装板的底部沿水平方向活动安装有两个连接板，连接板的上表面两端均固定安装有支撑座，支撑座的顶端固定安装有托板，托板上安装有衬底晶片；该接触式光刻机的托板便于调节，可以对不同尺寸的衬底晶片进行装载光刻，适应性强，通过第一电机和第二电机可以对衬底晶片的位置进行调节。
基本信息
专利标题 ：
功率放大器芯片生产用接触式光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020279441.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-09
授权号 ：
CN211403121U
授权日 ：
2020-09-01
发明人 ：
邹伟民陈世昌
申请人 ：
江苏传艺科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市高邮市凌波路33号
代理机构 ：
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨润
优先权 ：
CN202020279441.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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