一种准单晶硅片微缺陷的检测装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种准单晶硅片微缺陷的检测装置,包括底座,底座的上端设有固定台,固定台的下端四拐角处均固定连接有支柱,支柱的下端均固定连接在底座上,固定台的中部开设有凹槽,凹槽的开口处位于固定台的上端,凹槽内部下端的两侧均开设有通槽,固定台的上端两侧均固定连接有支撑板,支撑板靠近固定台中部的一侧均开设有升降槽,升降槽的内部下端均固定连接有定位杆,本实用新型所达到的有益效果是:本实用是一个单晶硅片检测时所用的抛光装置,且本实用新型的固定台两侧均设置了带有喷头的水管,且水管上均连接有一个储存去离子水的储水盒,使得本实用新型在抛光的同时可以对单晶硅片进行清洗,无需分开来操作,工作效率较高。
基本信息
专利标题 :
一种准单晶硅片微缺陷的检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020347633.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-19
授权号 :
CN212228539U
授权日 :
2020-12-25
发明人 :
王丽华
申请人 :
连云港市质量技术综合检验检测中心
申请人地址 :
江苏省连云港市海州区科教园区振华东路(灵山路口)
代理机构 :
连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
谷金颖
优先权 :
CN202020347633.0
主分类号 :
G01N1/32
IPC分类号 :
G01N1/32 G01N1/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样;制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
G01N1/32
抛光;腐蚀
法律状态
2020-12-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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