一种涂胶显影机晶圆高精度定位装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种涂胶显影机晶圆高精度定位装置，包括底座，所述底座的左右两侧均固定连接有支撑板且支撑板的顶端固定连接有外壳，所述外壳的内部右侧端固定安装有电机且电机的顶端安装有丝杆，所述丝杆外侧壁上齿扣连接有丝杆套且丝杆套外侧壁上固定安装有轴承套，所述轴承套底端安装有C/S手臂，所述底座顶端固定连接有固定板且固定板的顶端最左侧固定连接有圆弧边A，所述固定板的顶端右侧固定连接有空腔室且空腔室的右侧端固定安装有电动充气泵，本实用新型结构简单、设计新颖，在固定晶圆过程中操作十分简单、步骤少，大大节省了人力，并且C/S手臂定位十分便捷，而且准确度高。
基本信息
专利标题 ：
一种涂胶显影机晶圆高精度定位装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020527783.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-13
授权号 ：
CN211857175U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
田英干
申请人 ：
嘉兴晶装电子科技股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市嘉善县罗星街道归谷园区创业中心A座433室
代理机构 ：
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王大国
优先权 ：
CN202020527783.X
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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