一种PECVD双面沉积专用设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种PECVD双面沉积专用设备，涉及太阳能技术领域，包括支架、轴座、转轴、六角辊、吸盘、电磁伸缩杆、安装轴、滑触线圈、安装座、驱动轴、减速器、伺服电机、升降柱、转位柱、固定安装座、装载台、石墨装载盘、支撑滚轮、硅片放置台、硅片、走线孔、装载槽、装配槽、轴承、安装槽、转位驱动伺服电机、转位减速器、连接法兰、升降电机安装槽。本实用新型设计方案通过可转位可升降式旋转六角辊以及负压吸盘和电磁伸缩杆的设计使硅片的装载由原来的单片装载转变为横向多片同时装载，且在石墨盘进入装载台后硅片的装载随石墨盘往工艺腔内的进给运动同步进行，大幅度节省了装载时间，提高了加工效率，降低加工成本。
基本信息
专利标题 ：
一种PECVD双面沉积专用设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020733384.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-07
授权号 ：
CN212199415U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
吴海燕林红陈忻许峰谢吴成范新庄
申请人 ：
广东德九新能源有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区桂城街道夏南二上元西工业区天富科技中心1-3号厂房
代理机构 ：
杭州润涞知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李磊
优先权 ：
CN202020733384.9
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 C23C16/458 C23C16/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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