一种OLED显示器件蒸镀工艺制程用真空炉
授权
摘要
本实用新型涉及一种OLED显示器件蒸镀工艺制程用真空炉，包括主体、支撑组件、供水组件、冷却组件以及功能组件；所述主体上设置有腔体，所述供水组件通过支撑组件与主体连接，所述冷却组件上的水管插入腔体内，所述主体上设置有抽真空组件和门组件，所述抽真空组件上设置有抽气件，所述门组件包括门板和锁扣，所述功能组件位于腔体内，所述功能组件通过导向组件与腔体活动连接，所述功能组件包括上放置件、下放置件、条加热件以及点加热件。本实用新型提供一种OLED显示器件蒸镀工艺制程用真空炉，提高了生产的OLED显示器件的品质，减少了蒸镀机停线和保养的次数，提高了生产效率，降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种OLED显示器件蒸镀工艺制程用真空炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020844178.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN212610868U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
朱龙海
申请人 ：
昆山格德洛克智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市巴城镇石牌东岳路369号2号楼3楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020844178.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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