本实用新型公开了一种连续式半导体蚀刻设备，涉及到半导体蚀刻设备领域，包括装置本体，装置本体的一侧设有电气控制柜、装置本体上设有装置门，装置门上设有玻璃，装置本体的底侧内壁设有废液收集盒，装置本体的底侧内壁设有加热器。本实用新型结构合理,通过设置加热器和搅拌器，使得蚀刻液温度保持合适温度和蚀刻液搅拌均匀保持合适浓度，提高了蚀刻的速率，单线设置两个半导体蚀刻，提高了蚀刻速度，通过设置纵板和挡板，避免蚀刻液飞溅到其它半导体上，通过设置加热箱和风扇，对半导体表面进行主吹干，通过设置空气滤清器，过滤空气中的杂质，避免半导体被空气中的杂质污染而影响使用功能。