一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台
授权
摘要
本实用新型公开了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台，包括旋转平台和反应板，所述反应板设于旋转平台上方，且反应板与旋转平台匹配设置，所述旋转平台下方设置有连接板，所述连接板上侧壁对称设置有伸缩外管，且旋转平台下侧壁固定连接有与伸缩外管匹配的伸缩内管，所述伸缩外管与伸缩内管竖直滑动连接，所述连接板与旋转平台之间还通过高度调节装置连接。本实用新型通过在伸缩内管上设置刻度线与高度调节装置配合在一切，可以清楚的反应旋转平台上升的高度，从而快速根据不同需求控制伸缩内管的伸缩量，大大的提高了调节效率，同时又保证了反应的原子和原子团能够均匀的排列在旋转平台上的膜层上，确保光学薄膜成型厚度均匀。
基本信息
专利标题 ：
一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021111475.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-16
授权号 ：
CN213266697U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
罗娟
申请人 ：
西安艾美科光电科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔区富民路西段路南2号
代理机构 ：
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘长春
优先权 ：
CN202021111475.5
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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