一种带有废料清理的光刻机
授权
摘要
本实用新型公开了一种带有废料清理的光刻机，包括：机箱、光源以及废料麻袋，所述机箱顶端安装有光源，所述光源底端安装有掩膜板，所述掩膜板底端安装有第一棱镜，所述第一棱镜底端安装有第二棱镜，所述第二棱镜底端安装有物镜，所述物镜底端安装有曝光台，所述曝光台一侧开设有进风口，所述曝光台另一侧安装有进风管，所述进风管底端安装有废料箱，所述废料箱两侧开设有出风口，本实用新型胶固化胶添加装置具有能够清理硅片以及曝光台上黏附的颗粒，防止后续硅片固定位置凸起，以及曝光时凸起区域发生失焦，影响产品良率的同时具有防止停机清扫曝光平台，造成光刻机产能损失率，提升产能，节约时间的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种带有废料清理的光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021398310.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-08
授权号 ：
CN212364790U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
秦有贵徐锋李华郭杰
申请人 ：
上海芯立电子科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区宣桥镇宣春路182号7幢一层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021398310.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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