一种光刻机用废料清理设备
授权
摘要

本实用新型提供一种光刻机用废料清理设备,包括防尘风机,所述防尘风机的输出端与连管的一端连通固定,所述连管上滑动设置有连板,所述连板的背离连管的一端设置有伺服电机,所述伺服电机的输出端穿过连板并与三角板固定连接,所述热风管、第一清洁管以及第二清洁管穿过三角板的一端与连管的一端相配合,所述防尘风机的一侧端面设置有安装板,所述安装板上设置有液压杆,所述液压杆的输出端与连板的一侧端面固定连接,与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:避免了因水渍附着在曝光平台上,无法清理,导致后续的光刻失焦,影响对芯片的光刻作业。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机用废料清理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123171856.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-16
授权号 :
CN216679350U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
胡德立
申请人 :
江苏微影半导体有限公司
申请人地址 :
江苏省盐城市经济技术开发区希望大道南路18-3号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202123171856.X
主分类号 :
B08B5/02
IPC分类号 :
B08B5/02  F26B21/00  G03F7/20  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁,如吹清凹处
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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