一种靶材加工用加持装置
授权
摘要
本实用新型公布了一种靶材加工用加持装置，包括底板，所述底板上端中部开有上下贯通的U形槽，所述底板上端固定安装有固定柱，且固定柱位于U形槽正后方，所述固定柱前部外弧面固定安装有固定装置，所述固定柱上部套接有活动柱，所述活动柱前部弧面开有若干个限位孔，所述固定装置穿过限位孔延伸至活动柱外部，所述活动柱前部弧面固定安装有连接杆，且连接杆位于限位孔上方，所述连接杆前端固定安装有夹持装置，且夹持装置位于U形槽正上方。本实用新型通过夹持装置实现靶材的固定，通过固定装置调整固定柱和活动柱之间的位置，进而调整靶材的高度，便于拆卸，操作简单，使用方便，实用性好。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材加工用加持装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021406491.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
CN212955317U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
温欢张学智
申请人 ：
河北冠靶科技有限公司
申请人地址 ：
河北省石家庄市兴业街与火炬路交叉口西北角
代理机构 ：
北京化育知识产权代理有限公司
代理人 ：
尹均利
优先权 ：
CN202021406491.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B25B11/00
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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