一种靶材固定装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种靶材固定装置，所述绝缘固定装置包括：包括若干绝缘固定块，其中，所述绝缘固定块上设置有若干贯穿于所述绝缘固定块上下表面的第一固定通孔，且每个所述第一固定通孔和靶材冲击位置之间还设置有一防导通凹槽结构。本实用新型提供的靶材固定装置，因为防导通凹槽结构使其避免了靶材溅射过程中薄膜落入固定通孔而导致绝缘性差的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材固定装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920728904.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-20
授权号 ：
CN210796608U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
张小军
申请人 ：
咸阳彩虹光电科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省咸阳市秦都区高科一路一号
代理机构 ：
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张晓
优先权 ：
CN201920728904.4
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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