一种靶材组件的加工方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种靶材组件的加工方法，所述加工方法包括如下步骤：(1)靶材原料依次经锻伸处理、第一热处理和冷锻处理，得到第一靶材；(2)所述第一靶材依次经第二热处理、静压处理和压延处理，得到第二靶材；(3)所述第二靶材依次经第三热处理和机加工，得到半成品靶材；(4)所述半成品靶材与背板进行热等静压焊接处理，得到靶材组件。本发明所述加工方法中热等静压焊接处理的温度低，压力高，可以得到焊接结合率高的靶材组件，适合大规模工业化生产。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材组件的加工方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369802A
申请号 ：
CN202210123989.X
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2022-02-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽侯娟华
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩承志
优先权 ：
CN202210123989.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B23P15/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20220210
申请日 : 20220210
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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