一种靶材组件
授权
摘要
本实用新型涉及一种靶材组件，所述靶材组件的背板上设置通孔；所述靶材组件的靶材上设置盲孔；所述通孔的中心线与背板中心线的垂直距离为360‑370mm；所述盲孔开口的一侧和通孔相连接；所述盲孔与所述通孔的中心线相重合；所述盲孔的垂直深度为所述靶材厚度的1/8‑1/6。本实用新型中，通过在靶材组件中背板和靶材的特定位置分别设置通孔和盲孔使得在靶材溅射击穿时，起到预警的作用，同时也使得溅射过程中，溅射深度更加均匀，提升了靶材的溅射利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021620101.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-06
授权号 ：
CN212925152U
授权日 ：
2021-04-09
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽侯娟华
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202021620101.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-04-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
