一种防打火靶材组件
授权
摘要
本实用新型提供了一种防打火靶材组件，所述防打火靶材组件包括层叠设置的靶材与背板；所述靶材与背板的结合部位设置有喷砂区；所述喷砂区至背板的边缘依次设置有密封槽和排气槽；所述喷砂区、密封槽与排气槽呈并列排布。本实用新型提供的防打火靶材组件避免了靶材组件在磁控溅射过程中的打火现象，提升了镀膜质量的同时不额外增加操作繁琐度。
基本信息
专利标题 ：
一种防打火靶材组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022382898.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
CN214361648U
授权日 ：
2021-10-08
发明人 ：
姚力军边逸军潘杰王学泽章丽娜
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202022382898.7
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-10-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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