一种蒸镀遮罩结构
授权
摘要
本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀遮罩结构，包括金属掩膜板，金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方，通过在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设置可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，这样使得能够使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀遮罩结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021448167.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-21
授权号 ：
CN213388860U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
温质康林佳龙乔小平
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市博深专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
董晗
优先权 ：
CN202021448167.1
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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