一种多晶硅还原炉电极结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种多晶硅还原炉电极结构,属于多晶硅生产技术领域,包括电极体,所述电极体安装在还原炉底盘内,所述电极体和还原炉底盘之间设有的电极绝缘套,所述电极体还套接有绝缘环,所述绝缘环设置在电极绝缘套上方,所述绝缘环的内径比电极体的外径大0.03‑0.6mm,可以解决还原炉在生产过程中,炉内硅粉随气流流动并沉积在电极、绝缘环及底盘表面,易造成电极与底盘之间形成电气短路,影响还原炉正常生产,以及增加隔热罩成本高,易带入杂质的问题。
基本信息
专利标题 :
一种多晶硅还原炉电极结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021562548.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-31
授权号 :
CN213141423U
授权日 :
2021-05-07
发明人 :
陈绍林甘居富刘逸枫周鹏刘斌王亚萍杨楠贾琳蔚
申请人 :
云南通威高纯晶硅有限公司
申请人地址 :
云南省保山市工贸园区昌宁园中园
代理机构 :
成都天嘉专利事务所(普通合伙)
代理人 :
赵丽
优先权 :
CN202021562548.2
主分类号 :
C01B33/035
IPC分类号 :
C01B33/035
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
硅
C01B33/021
制备
C01B33/027
使用除二氧化硅或含二氧化硅物料以外的气态或汽化的硅化合物的分解或还原
C01B33/035
在存在硅、碳或耐熔金属的热丝情况下,或在存在热硅棒情况下,用气态或汽化的硅化合物的分解或还原
法律状态
2021-05-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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