一种收集ITO靶材的专用装置
授权
摘要
本实用新型涉及加工设备技术领域，且公开了一种收集ITO靶材的专用装置，包括箱体，所述箱体的内部连接有加热器，所述箱体的顶部连接有壳体，所述壳体顶部的两侧均连接有支撑杆，所述支撑杆的顶部连接有横杆，所述横杆的内部连接有两个液压伸缩气缸，所述液压伸缩气缸的伸缩端连接有按压板，所述壳体的顶部套接有两个料桶，所述箱体底部的两侧均连接有万向轮；本实用新型通过箱体、加热器、壳体、支撑杆、横杆、液压伸缩气缸、按压板、料桶和万向轮的设置，解决了现有ITO靶材收集专用装置功能单一，不能够有效对其进行烧结加工的问题，该装置能够有效对其进行烧结加工，从而提高了该装置的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种收集ITO靶材的专用装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021649401.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN213739649U
授权日 ：
2021-07-20
发明人 ：
唐安泰
申请人 ：
株洲火炬安泰新材料有限公司
申请人地址 ：
湖南省株洲市天易科技城A5栋
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
杨千寻
优先权 ：
CN202021649401.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B65D25/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-07-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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