一种单晶硅高效清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种单晶硅高效清洗装置，包括顶部敞口且底部设有出水口的清洗槽，清洗槽顶部可拆卸安装有支撑板，清洗槽内竖直设有旋转轴，旋转轴的顶端穿过支撑板与电机的输出轴机械固接，旋转轴上可拆卸固定有两个相互对称设置的格栅箱，格栅箱内间隔安装设有若干分隔板，分隔板之间形成放置硅片的空间，清洗槽的内侧壁及底部安装有超声发生器。本实用新型清洗效率高，单晶硅片的清洗干净度高。
基本信息
专利标题 ：
一种单晶硅高效清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021719376.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-17
授权号 ：
CN213124383U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
胡安东
申请人 ：
扬州宏祥光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市高邮市天山镇工业集中区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021719376.5
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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