一种用于单晶硅片的清洗架
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摘要

一种用于单晶硅片的清洗架,包括主体框架、提手、加强板、安装板、滑板、挡板、限位弹簧、挂钩、固定环,所述主体框架由底部横杆、顶部横杆、纵杆构成立方体结构,顶部横杆与纵杆之间固定连接有加强板,所述主体框架的顶部两侧对称设有提手,所述主体框架上固定安装有安装板,安装板上通过螺栓水平安装有滑板,主体框架与挡板相对的另一端的底部横杆上设有固定环,所述底部横杆、顶部横杆之间设有限位弹簧。本实用新型杜绝了固定装置滑出清洗架的可能性,同时限位弹簧由于自身的弹性,使得固定装置在清洗的过程中发生位移撞击到限位弹簧时,起到一定的缓冲作用,避免造成单晶硅片的破碎,消除了碎片可能导致的设备故障问题及维修困难。

基本信息
专利标题 :
一种用于单晶硅片的清洗架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021138076.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-18
授权号 :
CN212703561U
授权日 :
2021-03-16
发明人 :
王海军薛佳勇薛佳伟
申请人 :
天津众晶半导体材料有限公司
申请人地址 :
天津市北辰区天津北辰经济技术开发区双原道7号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021138076.8
主分类号 :
B08B13/00
IPC分类号 :
B08B13/00  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B13/00
一般用于清洁机器或设备的附件或零件
法律状态
2021-03-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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