本实用新型公开了一种单片上下面清洗装置，一种单片上下面清洗装置，包括底座，所述底座上方设置中心轴，中心轴上传动套装有从动转环，从动转环外侧壁上部设置传输转盘，传输转盘上设置6个晶片承载台，本实用新型提供一种单片上下面清洗装置，结构新颖且布局合理，工作时，通过驱动装置带动传输转盘转动，传输转盘上有6个晶片承载台，每刷洗完一片晶片，转盘逆时针旋转60度，将刷洗完成的晶片传送到下片位置，同时背面刷头抬起，将放在晶片承载台上的未刷洗的晶片，向上顶起，与相对高速旋转的正面刷头接触，进行正面旋转刷洗，同时，背面刷洗头也以相对较低的速度反方向旋转，对晶片背面进行旋转刷洗，提升装置的清洗效率以及全面性。