本发明提供一种单片式晶圆清洗装置，包括承载台及喷头，喷头位于承载台上方，包括清洗液供给单元、清洗液回收单元及收容腔，清洗液供给孔位于收容腔的底面，多个清洗液回收孔位于收容腔的边缘且位于清洗液供给孔的外侧，承载台的表面宽度小于收容腔的开口宽度，收容腔容置晶圆，且晶圆与收容腔之间具有间距并构成浸渍空间。本发明的单片式晶圆清洗装置，通过清洗液供给单元供给清洗液，通过清洗液回收单元回收清洗液，且结合收容腔，使得收容腔与晶圆之间构成浸渍空间，从而喷头可同时兼具对清洗液的喷淋与回收的任务，且可为晶圆提供浸渍氛围，从而在不影响工艺标准的前提下，有助于减少清洗液的用量，降低成本，减少排放。