一种单片式晶圆清洗装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种单片式晶圆清洗装置,包括工作台面、喷淋机构、清洗机构和回收机构;所述工作台面包括基座、固定盘、承载盘和电机,所述基座的下方固定安装有所述电机,上方连接有转轴,所述承载盘设置在所述固定盘上方,所述转轴上方设置所述固定盘;所述喷淋机构包括喷淋管和喷气管,所述喷淋管的喷嘴位于晶圆的上方,所述喷气管的喷射口与晶圆具有一夹角;所述清洗机构包括支撑部、支撑杆、支撑架和清洗刷;所述回收机构包括阻挡壁、引流槽和收集箱。本发明提供的单片式晶圆清洗装置,能对晶圆的边缘进行清洁,有效提高边缘颗粒的去除效果,清洗之后,还能对晶圆进行干燥处理,并对多余的清洗液进行回收利用,减少对环境的污染。
基本信息
专利标题 :
一种单片式晶圆清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114378031A
申请号 :
CN202111674424.2
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孟庆璋邓信甫刘大威陈丁堃
申请人 :
江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市启东经济开发区林洋路2015号
代理机构 :
上海申新律师事务所
代理人 :
竺路玲
优先权 :
CN202111674424.2
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B13/00 F26B21/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B08B 3/02
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载