本实用新型涉及一种用于原子层沉积工艺的装置，包括有外真空腔体、内反应腔体、工件架、加热组件、进气组件和真空组件，所述内反应腔体固设于所述外真空腔体内，所述工件架设于所述内反应腔体内，所述加热组件围绕所述内反应腔体设置，且设于所述内反应腔体的顶端和底端，所述进气组件分别与所述外真空腔体和内反应腔体连通，所述真空组件分别与所述外真空腔体和内反应腔体连通。上述用于原子层沉积工艺的装置能够很快地将腔内部分残留气相前驱体和反应副产物排走，提高了沉积薄膜的质量，而且加热组件围绕内反应腔体设置，且设于内反应腔体的顶端和底端，能够使腔内升温速度加快，并保证腔内的温度保持一致，避免出现局部温度过高的情况产生。